光學(xué)應(yīng)用冷熱臺作為變溫環(huán)境下研究光學(xué)性能的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體物理、光電子器件、納米技術(shù)、生物光子學(xué)、礦物等領(lǐng)域，精確控制樣品溫度并實(shí)時(shí)測試其光學(xué)特性（如顯微圖像、熒光、拉曼、折射率、發(fā)光效率等）。

本系列產(chǎn)品具備4K至1700℃的超寬范圍精確控溫能力。依據(jù)目標(biāo)溫度及應(yīng)用特點(diǎn)，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、熱電制冷、電阻加熱、紅外加熱、激光加熱等在內(nèi)的多種前沿溫控解決方案，為復(fù)雜變溫實(shí)驗(yàn)提供強(qiáng)大支持。

同時(shí)，提供多語言SDK（如Labview、C#等），賦能客戶實(shí)現(xiàn)高效定制化集成。

果果儀器H200-Mini：溫度范圍RT~200℃，溫度穩(wěn)定性±0.1℃；采用無腔室設(shè)計(jì)，尺寸迷你小巧，使用便捷。

光學(xué)熱臺H200-Mini特點(diǎn)：

• 溫度范圍：RT-200℃

• 溫度穩(wěn)定性：±0.1℃

• 腔室：裸露

光學(xué)熱臺H200-Mini參數(shù)：